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清洁工程不仅要保障环境的清洁度，还应控制室内的温度和湿度，以确保清洁工程的环境湿度一定，在规定的范围内保持空气处理过程，这应该使我们具备承担这些费用。但是，为什么值得在清洁项目上花这么多钱来控制相对湿度呢？这很简单！由于相对湿度会降低洁净室的整体性能，因此包括以下几个方面。

1.植物生长；在相对湿度超过60％的环境中，其他生物污染物（霉菌，病毒，螨虫）也会繁殖。当相对湿度超过30％时，某些植物会生长。相对湿度在40％至60％的范围内，其影响和呼吸道感染可以降低到相当低的水平。

2.清洁工程人员的室温舒适范围；40％至60％的相对湿度范围也是人类舒适度的适中范围。高湿度会使人感到闷闷不乐，而湿度低于30％会使人感到干燥，皮肤破裂，呼吸不适和情绪不适。

3.出现静电；高湿度实际上减少了洁净室表面和洁净工程项目上的静电荷积聚-这是理想的结果。较低的湿度更适合电荷积累，并成为潜在的破坏性静电放电源。当相对湿度超过50％时，静电荷开始迅速消散，但是当相对湿度小于30％时，静电荷会在*缘体或未接地的表面上长期存在。35％至40％的相对湿度可以令人满意地折衷。半导体清洁工程中，清洁室通常使用其他控件来限制静电荷的积累。

4.金属腐蚀；随着相对湿度的增加，许多化学反应（包括腐蚀）的速率将增加。洁净室周围的所有暴露于洁净工作的表面，即洁净室周围的空气，都迅速被至少一层单层水覆盖。当这些表面由可以与水反应的薄金属涂层组成时，高湿度会加快反应速度。幸运的是，某些金属（例如铝）可以与水形成氧化物保护层，并防止进一步的氧化反应。但是在其他情况下，例如氧化铜没有保护作用，因此铜表面在高湿度下更容易受到腐蚀。

5.水蒸气的冷凝；在相对湿度较高的环境中，浓水的毛细作用在颗粒与表面之间形成键，这可以增加颗粒与硅质表面之间的粘附力。当相对湿度小于50％时，这种影响（开尔文浓度）并不重要，但是当相对湿度约为70％时，它是颗粒之间粘附的主要力量。

6.光刻技术的退化；迄今为止，光致抗蚀剂的敏感性一直是在半导体清洁工程和洁净室中正确控制的迫切需求。由于光刻胶对相对湿度的敏感性，相对湿度的控制范围非常严格。

在干旱季节，在清洁工程中，静电和粉尘的危害直接导致清洁工程工业产品出现各种不良后果。现在通过使用工业加湿器将改善空气湿度，即确保产品质量，使人感到舒适，静电消失，因此，清洁加湿已成为净化工程中环境控制的必要要求。